alert icon

Данный сайт не поддерживается браузером Internet Explorer 8. Пожалуйста, обновите ваш браузер до более поздней версии или воспользуйтесь другим браузером.

Скрыть hide icon

Клапан ALD20 сверхвысокой степени чистоты создает новые возможности в производстве полупроводников

Сборка клапана UHP ALD20 в чистом помещении для применения в полупроводниковой отрасли.
Клапан ALD20 сверхвысокой степени чистоты предназначен для улучшения технологических возможностей и повышения производительности предприятий-изготовителей полупроводниковых микросхем.

Клапан ALD20 сверхвысокой степени чистоты создает новые возможности в производстве полупроводников

Усовершенствованный клапан благодаря повышенной пропускной способности, термостабильности и самой высокой точности позволяет производителям микросхем экспериментировать с новыми прекурсорами.

СОЛОН, шт. Огайо (01 февраля 2020 г.) – Компания Swagelok, ведущий поставщик решений для жидкостных и газовых систем, узлов и соответствующих услуг, объявила о выпуске нового клапана ALD20 сверхвысокой степени чистоты для областей применения с высоким расходом. С начала появления на рынке технологии атомно-слоевого осаждения (ALD) компания Swagelok ведет работу с производителями полупроводниковых инструментов и микросхем с целью обеспечить высокую производительность, необходимую для того, чтобы идти в ногу с быстро меняющимися технологическими требованиями. Новый клапан ALD20 является последним на данный момент результатом этого сотрудничества, дающим разработчикам перспективных технологических процессов гибкость для экспериментирования с химическими составами с низким давлением пара, которые могут стать ключевыми для завоевания конкурентных преимуществ в будущем.

Заявленная на патент конструкция клапана ALD20 максимально повышает эффективность производственного процесса и стабильность осаждения благодаря обеспечению коэффициентов расхода в два-три раза выше в сравнении с теми, которые возможны с используемой сегодня стандартной клапанной технологией ALD. Данный клапан способен обеспечить расход до Cv=1,2 при таких же размерах (1,5 дюйма (38,1 мм)) в сравнении с существующими клапанами ALD, что дает некоторым пользователям возможность увеличить производительность без переналадки действующего оборудования или внесения дополнительных изменений в техпроцесс. Другой стандартный вариант исполнения клапана ALD20 несколько большей ширины (1,75 дюйма (44,5 мм)) обеспечивает еще более высокий расход до Cv=1,7. Также предлагается возможность установки коэффициентов расхода по усмотрению клиента.

Клапан ALD20, предназначенный для обеспечения максимальной стабильности техпроцесса, может быть полностью погружен в газовую камеру при температуре от 50 °F (10 °C) до 392 ºF (200 ºC), повышая тем самым термостабильность и однородность осаждения. Кроме того, он имеет корпус, выполненный из нержавеющей стали 316L VIM-VAR или сплава 22, что обеспечивает повышенную коррозионную стойкость при использовании в агрессивных средах, а также сильфоны с зеркальной полировкой Ra 5 микродюймов (0,127 мкм) для чистой работы с целью поддержания долгосрочной целостности техпроцесса.

«Клапан ALD20 является прямым ответом на быстро меняющиеся потребности полупроводниковой отрасли, — заявил Гаррик Джозеф (Garrick Joseph), директор Swagelok по маркетингу продукции для полупроводниковой отрасли. — Благодаря сотрудничеству с ведущими предприятиями отрасли с опорой на глубокие инженерные знания жидкостных и газовых систем мы с удовольствием объявляем о выпуске изделия, позволяющего заказчикам эффективно использовать химические составы газовых прекурсоров, которые ранее могли считаться слишком проблематичными или дорогими для использования, но могут иметь важнейшее значение для разработки технологии производства микросхем нового поколения».

В настоящее время клапан ALD20 доступен в модульных конфигурациях для монтажа на поверхность с двумя или тремя отверстиями, в прямых конфигурациях с торцевым соединением под приварку встык и торцевыми соединениями в виде фитингов с торцевым уплотнением VCR® с внутренней и наружной резьбой, а также в конфигурациях многоходового клапана для оптимизации схемы движения потока в существующих или новых системах. В качестве дополнительного компонента также предлагается высокотемпературный оптический датчик положения.

Чтобы узнать подробнее о новом клапане ALD20 сверхвысокой степени чистоты производства компании Swagelok для областей применения с высоким расходом, посетите веб-сайт swagelok.ru/ALD20 или обратитесь в региональный центр продаж и сервисного обслуживания Swagelok.

О компании Swagelok

Компания Swagelok является частной компанией-разработчиком изделий, узлов и услуг для жидкостных и газовых систем в нефтегазовой, химической и нефтехимической, полупроводниковой и транспортной отраслях промышленности. Годовой доход компании составляет приблизительно 2 млрд долларов. Компания Swagelok, штаб-квартира которой расположена в г. Солон, шт. Огайо (США), обслуживает клиентов в 70 странах через 200 центров продаж и сервисного обслуживания, опираясь на знания и опыт 5500 корпоративных сотрудников на 20 производственных предприятиях и в 5 международных технологических центрах.